1. 목적 

이 지침은 화학설비에서 발생되는 손상메커니즘을 확인하고, 관리하여 설비의 건전성을 유지하기 위한 부식 위험성평가에 필요한 사항을 제시하는데 그 목적이 있다. 

  
2. 적용범위

이 지침은 다음과 같은 경우에 부식성 유체를 사용하거나 부식을 일으키는 환경에 있는 화학설비에 대하여 적용한다.

2.1.1.1. 화학설비에 대한 부식 관리문서(Corrosion control document, CCD)를 작성할 때
2.1.1.2. 화학설비의 부식관리에 대한 우선순위를 결정하기 위한 자료를 개발할 때
2.1.1.3. 위험기반검사(Risk based inspection, RBI)와 같은 정량적 평가방법을 사용하지 않고 화학설비의 부식 위험성을 확인하고자 할 때
2.1.1.4. 화학설비의 건전성 모니터링(Integrity operating window, IOW)을 수행할 때